HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源
High Power Impulse Magnetron Sputtering
HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源被廣泛應用于各類PVD和PECVD工藝,用來制備高端金屬裝飾膜,功能膜和類金剛石(DLC)膜層等。相較于中頻磁控濺射電源,HiPIMS有著離化率高,繞鍍性好,膜層致密性好,成膜色澤優異等特點。HiPIMS最典型的應用包括對膜層致密性要求高的各類功能膜和硬質膜,iPhone的玫瑰金手機殼,高端手表表殼等。行業領先的精新HiPIMS電源作為可對標德國霍廷格(TRUMPF Hüttinger)同類型電源的產品,已為國內十多家真空鍍膜客戶提供了優質服務,廣受好評。
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