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精新電源專注于半導體制造解決方案,例如沉積、蝕刻和離子注入工藝。借助我們的半導體制造生產解決方案,通過高度精確的電源、頻率調諧和多級脈沖實現先進的等離子體工藝控制。

為了制造領先的集成電路 (IC),需要采用新型工藝和材料來制造晶體管或存儲單元。由于特征尺寸不斷縮小,精度達到原子級別,必須做到極致的工藝控制。

精新電源深諳半導體制造行業發展趨勢。我們是蝕刻、沉積注入和退火等關鍵工藝電源和控制解決方案的國內市場領導者。

您面臨的挑戰
  • 對于薄膜沉積來說,從用于刻印集成電路規格的薄膜,到導電和絕緣薄膜,再到金屬薄膜,您的沉積工藝需要原子級別的精密控制,同時膜層的結構、厚度、均勻性也必須達到高質量。
  • 對于四種類型的離子注入工藝(大電流、中電流、高能量和等離子體摻雜),能量純度、離子束角度控制和均勻性是關鍵變量。
  • 在精細化工藝流程控制的時候也必須要兼顧生產效率和成本,這也給半導體生產流程帶來了更多更大的挑戰。
我們的解決方案與優勢
  • 精新電源提供多種輸出功率和頻率,并可實現微秒級的控制。讓您精確的控制生產中的每一個環節。
  • 我們提供十多種脈沖波形穩定輸出,精細的控制精度和速度,不但可滿足各類PVD沉積工藝的需求,還大大提升了工藝的可重復性。
  • 得益于十數年在大型粒子加速器中沉淀出來的寶貴經驗,精新離子注入電源可解決您在離子注入工藝中遇到的所有挑戰。
  • 功率因數校正和全行業領先的電源效率可以大幅降低您生產過程中產生的能源消耗成本。
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